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1、適用：大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備。2、產(chǎn)品特點(diǎn)/用途：?設(shè)備可濺射/蒸發(fā)兩用；占地面積小，價(jià)格便宜，性能穩(wěn)定，使用維護(hù)成本低；?可用于制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、磁性膜、傳感器膜及耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕膜等；?鍍膜示例：銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、ITO、二氧化硅等；?單靶濺射、多靶依次濺射、共同濺射等功能。
名稱：高真空磁控濺射鍍膜機(jī)
品牌：泰科諾
型號(hào)：JCP500
產(chǎn)地：北京
1、適用：大專院校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行薄膜新材料的科研與小批量制備。
2、產(chǎn)品特點(diǎn)/用途：
?設(shè)備可濺射/蒸發(fā)兩用；占地面積小，價(jià)格便宜，性能穩(wěn)定，使用維護(hù)成本低；
?可用于制備單層及多層金屬膜、介質(zhì)膜、半導(dǎo)體膜、磁性膜、傳感器膜及耐熱合金膜、硬質(zhì)膜、耐腐蝕膜等；
?鍍膜示例：銀、鋁、銅、鎳、鉻、鎳鉻合金、氧化鈦、ITO、二氧化硅等；
?單靶濺射、多靶依次濺射、共同濺射等功能。
| 型號(hào) | JCP500 |
| 真空腔室結(jié)構(gòu) | 立式前開門結(jié)構(gòu)，后置抽氣系統(tǒng) |
| 真空腔室尺寸 | Φ500×H420mm |
| 加熱溫度 | 室溫～500℃ |
| 濺射方式 | 上下濺射可選 |
| 旋轉(zhuǎn)基片臺(tái) | Φ150mm |
| 膜厚不均勻性 | Φ100mm范圍內(nèi)≤±5.0% |
| 濺射靶/蒸發(fā)電極 | Φ3英寸磁控靶3支，兼容DC/MF/RF濺射 |
| 工藝氣體 | 2~3路氣體流量控制 |
| 控制方式 | PLC+觸摸屏人機(jī)界面半自動(dòng)控制系統(tǒng) |
| 占地面積 | (主機(jī)）L1900×W800×H1900mm |
| 總功率 | ≥10KW |
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