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半導體濺射膜片清洗設備

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  • 蘇州華林科納半導體設備技術有限公司
  • 2017-08-04 23:58:55
  • 蘇州市
  • 蘇州園區(qū)獨墅湖高教區(qū)若水路398號
  • 407

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【簡單介紹】

華林科納清洗設備

【詳細說明】

 

⑴超聲清洗,加熱清洗為單槽定時控制,到時給予結束提示音。⑵工藝過程:上料→支離子水超聲清洗→去離子水加熱清洗→去離子水沖洗→下料2.結構特點:本設備為柜體式,操作面帶有透明門窗。⑴槽體材料為德國進口聚丙烯(磁白色PP板),焊口采用SS外包5mm厚德國磁白色PP板,外型美觀實用。⑵設備超聲,加熱清洗時間由定時器控制。⑶加熱槽裝有溫控表(pompon)和傳感器。⑷每個清洗槽互不影響,超聲、沖洗清洗槽的上給水(沖洗清洗槽配有熱水)、下排水為手動方式。⑸配有可調節(jié)式的排風裝置。⑹配有美國進口氮qi qiang。 ⑺電控部分采用密封保護方式配有緊急停機及報警裝置。
    
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