CMD2000/4如何選用混懸液研磨分散設(shè)備
【簡單介紹】
【詳細(xì)說明】
產(chǎn)品關(guān)鍵詞概述:如何選用混懸液研磨分散設(shè)備 IKN研磨分散機(jī) 高剪切研磨分散設(shè)備 德國研磨分散機(jī) 醫(yī)藥混懸液研磨分散機(jī)
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混懸劑(suspensions)系指難溶**固體藥物以微粒狀態(tài)分散于分散介質(zhì)中形成的非均勻分散的液體藥劑。分散相微粒的大小一般在0.5~10μm之間,小的微粒可為0.1μm,大的微??蛇_(dá)50μm或更大。混懸劑的分散介質(zhì)多為水,也有用植物油?;鞈覄儆跓崃W(xué)不穩(wěn)定的粗分散體系。
藥物可考慮制成混懸劑的情況為:①不溶**藥物需制成液體藥劑應(yīng)用;②藥物的劑量超過了溶解度而不能制成溶液劑;③兩種溶液混合由于藥物的溶解度降低而析出固體藥物或產(chǎn)生難溶**化合物;④與溶液劑比較,為了使藥物緩釋*。⑤與固體劑型比較,為了加快藥物的吸收速度,提高藥物的生物利用度。⑥固體劑型胃局部刺激**大的情況,可考慮用混懸劑。但對(duì)于毒劇藥物或劑量太小的藥物,為了保證用藥的安全**。則不宜制成混懸劑應(yīng)用。
混懸劑的質(zhì)量要求是:藥物本身化學(xué)**質(zhì)應(yīng)穩(wěn)定,有效期內(nèi)藥物含量符合要求;混懸微粒細(xì)微均勻,微粒大小應(yīng)符合該劑型的要求;微粒沉降緩慢,口服混懸劑沉降體積比應(yīng)不低于0.90,沉降后不結(jié)塊,輕搖后應(yīng)能迅速分散;混懸劑的粘度應(yīng)適宜,傾倒時(shí)不沾瓶壁;外用混懸劑應(yīng)易于涂布,不易流散;不得有發(fā)霉、酸敗、變色、異臭、異物、產(chǎn)生氣體或其他變質(zhì)現(xiàn)象;標(biāo)簽上應(yīng)注明“用前搖勻”。如何選用混懸液研磨分散設(shè)備 IKN研磨分散機(jī) 高剪切研磨分散設(shè)備 德國研磨分散機(jī) 醫(yī)藥混懸液研磨分散機(jī)
混懸劑一般為液體藥劑,也包括一種干混懸劑。它是將難溶**藥物與適宜輔料制成粉末狀或顆粒狀藥劑,臨用前加水振搖即可分散成混懸液。其主要是有利于解決混懸劑在保存過程中的穩(wěn)定**問題,并可簡化包裝,便于貯藏和攜帶。
混懸劑-混懸液的穩(wěn)定**
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混懸劑中藥物微粒與分散介質(zhì)之間存在著固液界面,微粒的分散度較大,使混懸微粒具有較高的表面自由能,故處于不穩(wěn)定狀態(tài)。尤其是疏水**藥物的混懸劑,存在更大的穩(wěn)定**問題。這里主要討論混懸劑的物理穩(wěn)定**問題,以及提高穩(wěn)定**的措施。
(一)混懸微粒的沉降
混懸劑中的微粒由于受重力作用,靜置后會(huì)自然沉降,其沉降速度服從Stokes定律:
按Stokes定律要求,混懸劑中微粒濃度應(yīng)在2%以下。但實(shí)際上常用的混懸劑濃度均在2%以上。此外,在沉降過程中微粒電荷的相互排斥作用,阻礙了微粒沉降,故實(shí)際沉降速度要比計(jì)算得出的速度小得多。由Stokes定律可見,混懸微粒沉降速度與微粒半徑平方、微粒與分散介質(zhì)密度差成正比,與分散介質(zhì)的粘度成反比。混懸微粒沉降速度愈大,混懸劑的動(dòng)力學(xué)穩(wěn)定**就愈小。
為了使微粒沉降速度減小,增加混懸劑的穩(wěn)定**,可采用以下措施:①盡可能減小微粒半徑,采用適當(dāng)方法將藥物粉碎得愈細(xì)愈好。這是zui有效的一種方法。②加入高分子助懸劑,既增加了分散介質(zhì)的粘度,又減少微粒與分散介質(zhì)之間的密度差,同時(shí)助懸劑被吸附于微粒的表面,形成保護(hù)膜,增加微粒的親水**。③混懸劑中加入低分子助懸劑如糖漿、甘油等,減少微粒與分散介質(zhì)之間的密度差,同時(shí)也增加混懸劑的粘度。這些措施可使混懸微粒沉降速度大為降低,有效地增加了混懸劑的穩(wěn)定**。但混懸劑中的微粒zui終總是要沉降的,只是大的微粒沉降稍快,細(xì)小微粒沉降速度較慢,更細(xì)小的微粒由于布朗運(yùn)動(dòng),可長時(shí)間混懸在介質(zhì)中。
混懸劑的制備應(yīng)使固體藥物有適當(dāng)?shù)姆稚⒍?,微粒分散均勻,混懸劑穩(wěn)定,再懸**好?;鞈覄┑闹苽浞椒ㄓ蟹稚⒎ê湍鄯?。 IKN研磨分散機(jī) 高剪切研磨分散設(shè)備 德國研磨分散機(jī) 醫(yī)藥混懸液研磨分散機(jī)
1.分散法將固體藥物粉碎、研磨成符合混懸劑要求的微粒,再分散于分散介質(zhì)中制成混懸劑。小量制備可用研缽,大量生產(chǎn)時(shí)可用分散機(jī)、膠體磨 高壓均質(zhì)機(jī) 研磨分散機(jī)等機(jī)械。
分散法制備混懸劑要考慮藥物的親水**。對(duì)于親水**藥物如氧化鋅、*、堿式*、碳酸鈣、碳酸鎂、磺胺類等,一般可先將藥物粉碎至一定細(xì)度,再采用加液研磨法制備,即1份藥物加入0.4~0.6份的溶液,研磨至適宜的分散度,zui后加入處方中的剩余液體使成全量。加液研磨可用處方中的液體,如水、芳香水、糖漿、甘油等。此法可使藥物更容易粉碎,得到的混懸微粒可達(dá)到0.1~0.5μm.對(duì)于質(zhì)重、硬度大的藥物,可采用“水飛法”制備。“水飛法”可使藥物粉碎成極細(xì)的程度而有助于混懸劑的穩(wěn)定。
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疏水**藥物制備混懸劑時(shí),若藥物與水的接觸角>90°,不易被水潤濕,很難制成混懸劑??杉尤霛櫇駝┡c藥物共研,改善疏水**藥物的潤濕**。
助懸劑、防腐劑、矯味劑等附加劑可先用溶劑制成溶液,制備混懸劑時(shí)作液體使用。
現(xiàn)代固體分散技術(shù),如藥物微粉化技術(shù),應(yīng)用于混懸劑的制備,可使混懸微粒更細(xì)小,更均勻,混懸劑的穩(wěn)定**更好,生物利用度更高。如應(yīng)用氣流粉碎機(jī),粉碎的藥物可同時(shí)進(jìn)行分級(jí),可得到5μm以下均勻的微粉;膠體磨能將藥物粉碎至小于1μm的微粉。
研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達(dá)到顆粒*被分離(separating)、潤濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。
上海IKN技術(shù),*創(chuàng)意,融化理念。將IKN高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來CM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級(jí)模塊,加入了一級(jí)分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。
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