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無(wú)紡布激光打標(biāo)機(jī)鐳雕機(jī)紫外激光打標(biāo)機(jī)工作原理及特點(diǎn)：融入技術(shù),高能量的紫外光子直接破壞許多非金屬材料表面的分子鍵，使分子脫離物體，這種方式不會(huì)產(chǎn)生高的熱量，紫外激光聚集光斑極小，且加工幾乎沒(méi)有熱影響，故被稱(chēng)為冷加工，因而適用于特殊材料超精細(xì)打標(biāo)及雕刻。
無(wú)紡布激光打標(biāo)機(jī)鐳雕機(jī)行業(yè)中激光打標(biāo)機(jī)又邁入了一個(gè)新的里程碑，向著食品和醫(yī)療方面邁進(jìn)?，F(xiàn)在多個(gè)行業(yè)都非常適合用銘上紫外激光打標(biāo)機(jī)應(yīng)用范圍：更加適合對(duì)熱輻射反應(yīng)大的材料進(jìn)行加工;可與生產(chǎn)流水線(xiàn)配合，自動(dòng)上下料，自動(dòng)進(jìn)出料;適合在絕大多數(shù)金屬和非金屬材料上打標(biāo) 適用材料：PCB板、LCD、TFT打標(biāo)、劃片切割、蘋(píng)果手機(jī)外殼、充電寶外殼、耳塞表面處理

口罩激光打標(biāo)機(jī) 口罩包裝打標(biāo)機(jī)噴碼機(jī) 口罩生產(chǎn)線(xiàn)輔助標(biāo)記設(shè)備
全新、環(huán)保、具有良好防偽功能的激光打標(biāo)工藝在口罩標(biāo)簽標(biāo)記上正在被廣泛地使用，作為口罩防偽安全的正義使者，激光打標(biāo)機(jī)用高能量的連續(xù)激光光束，將表面材料瞬間熔融甚至汽化，通過(guò)控制激光在材料表面的路徑，從而在口罩外層形成脫落的標(biāo)識(shí)碼，任何藥水擦拭都不起作用，助力口罩產(chǎn)品防偽及全流程
口罩激光打標(biāo)機(jī) 口罩包裝打標(biāo)機(jī)噴碼機(jī) 口罩生產(chǎn)線(xiàn)輔助標(biāo)記設(shè)備
口罩流水線(xiàn)打標(biāo) 口罩自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備
全新、環(huán)保、具有良好防偽功能的激光打標(biāo)工藝在口罩標(biāo)簽標(biāo)記上正在被廣泛地使用，作為口罩防偽安全的正義使者，激光打標(biāo)機(jī)用高能量的連續(xù)激光光束，將表面材料瞬間熔融甚至汽化，通過(guò)控制激光在材料表面的路徑，從而在口罩外層形成脫落的標(biāo)識(shí)碼，任何藥水擦拭都不起作用，助力口罩產(chǎn)品防偽及全流程溯源。
行業(yè)運(yùn)用：
■ 紫外激光打標(biāo)機(jī)適用于玻璃、高分子材料等物體表面打標(biāo)，微孔加工。
■ 廣泛用于食品、藥品、化妝品、電線(xiàn)等高分子材料的包裝瓶（盒）表面打標(biāo)，打微孔（孔徑d≤10μm）。
■ 柔性PCB板、LCD、TFT打標(biāo)、劃片切割等。
■ 金屬或非金屬鍍層去除
■硅晶圓片微孔、盲孔加工。

設(shè)備參數(shù)

激光波長(zhǎng)： 355nm
激光功率： 3W
光束質(zhì)量 M2 <0.8mm
刻寫(xiě)范圍： 100 x 100mm
最小字符： 0.2mm
標(biāo)刻速度： <= 7000mm/s
重復(fù)精度 ±0.1μm
標(biāo)記范圍 110x110mm
冷卻方式 水冷
紫外激光打標(biāo)機(jī)產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn)：
■紫外激光波長(zhǎng)短，聚焦光斑更小,可實(shí)現(xiàn)超精細(xì)打標(biāo);
■ 屬于冷加工，熱影響區(qū)小,避免損傷被加工材料,成品率高
■ 適用材料廣,彌補(bǔ)紅外激光加工能力的不足;
■ 使用高速數(shù)字振鏡,打標(biāo)速度快、效率高、精度高；
■ 無(wú)需耗材，使用成本及維護(hù)費(fèi)用低；整機(jī)性能穩(wěn)定，可長(zhǎng)期運(yùn)行。


工作環(huán)境：

■環(huán)境溫度要求在10-35℃之間，要求裝空調(diào)；
■ 溫度要求為＜60%。無(wú)結(jié)露，應(yīng)該安裝除濕機(jī)；
■ 供電電網(wǎng)要求：220V；50HZ/60HZ；
■ 供電電網(wǎng)波動(dòng)：±15%，電網(wǎng)地線(xiàn)符合國(guó)際要求。電壓振幅15%以上的地區(qū)，應(yīng)加裝電子式自動(dòng)穩(wěn)壓、穩(wěn)流裝置；
■安裝設(shè)備附近應(yīng)無(wú)強(qiáng)烈電磁信號(hào)干擾。安裝地周?chē)苊庥袩o(wú)線(xiàn)電發(fā)射站（或中繼站）；
■ 地基振幅：小于50Um；振動(dòng)加速度：小于0.05g。避免有大量沖壓等機(jī)床設(shè)備在附近；
■ 設(shè)備空間要求要保證無(wú)煙無(wú)塵，避免金屬拋光研磨等粉塵嚴(yán)重的工作環(huán)境；
■氣壓：86-106kpa
■某些環(huán)境應(yīng)裝防靜電地板，加強(qiáng)屏蔽等；
■工作冷卻循環(huán)水的水質(zhì)有嚴(yán)格要求，要求使用純凈水、去離子水或蒸餾水，不可以使用自來(lái)水、礦泉水等含有較高金屬離子或其他礦物質(zhì)的液體。