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上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司
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所 在 地上海
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更新時間：2022-10-10 12:22:01瀏覽次數(shù)：217次
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關(guān)鍵詞：磁控濺射、電子束蒸鍍、超高真空、金屬膜、氧化膜、約瑟夫森結(jié)、超導(dǎo)、量子器件、量子比特、
多腔體、Qubit、UHV、鈮基超導(dǎo)、氮化鈮、鈦氮化鈮、NbTiN、NbN、sputtering system
Evaporation system、Nb-based superconductor、超導(dǎo)鋁結(jié)、Josephson junction
型號：MEB 550S4 產(chǎn)地：歐洲； 應(yīng)用：沉積Al、Nb、NbN、NbTiN等各種超導(dǎo)結(jié)
磁控濺射和電子束蒸發(fā)鍍膜一體機是納米器件制備中的儀器，用于制備各種高純金屬薄膜和氧化物薄膜。開展量子計算機實驗研究，如基于金剛石NV色心，離子阱，超導(dǎo)量子結(jié)，量子點電子自旋的研究，均需要蒸鍍/濺鍍各種高質(zhì)量金屬薄膜來制備量子器件。
配置概要：
1、 系統(tǒng)配有多個腔室：UHV蒸發(fā)室、UHV濺射室等，用于制備約瑟夫森結(jié)。
2、 電子束蒸發(fā)源：（4-6）x 15cc，6-15KW，2-10KV可調(diào)。
3、 濺射室配有多個磁控靶源，每個靶源有獨立的擋板，配備獨立氣路。
4、 可以注入多種氣體，進行氧化處理，并且可控制其壓強。
5、 樣品臺可以適用于3英寸以上晶片，且具有樣品臺傾斜和旋轉(zhuǎn)功能。
6、 樣品襯底在鍍膜前可以通過離子槍進行清潔。
7、 主要真空腔真空度可達10-9 Torr。
8、 可以沉積幾乎任何金屬及氧化物薄膜。
9、 蒸鍍厚度控制速度分辨率: 0.001nm/s
10、 整個系統(tǒng)全自動控制，支持半自動和手動模式。
代表用戶：數(shù)個超導(dǎo)及量子器件研究實驗室。
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