粉碎設(shè)備 混合設(shè)備 分離設(shè)備 濃縮結(jié)晶設(shè)備 傳質(zhì)設(shè)備 干燥設(shè)備 反應(yīng)設(shè)備 換熱設(shè)備 制冷設(shè)備 空分設(shè)備 儲(chǔ)存設(shè)備 鍋爐|加熱設(shè)備 包裝機(jī)械 輸送設(shè)備 化工實(shí)驗(yàn)室設(shè)備
上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司
會(huì)員1.png)
上海續(xù)波光電技術(shù)有限公司
| 參 考 價(jià) | 面議 |
產(chǎn)品型號(hào)
品 牌
廠商性質(zhì)其他
所 在 地上海
化工機(jī)械設(shè)備網(wǎng)采購(gòu)部電話：0571-88918531
QQ:2568841715
聯(lián)系方式：查看聯(lián)系方式
更新時(shí)間：2022-10-14 12:23:21瀏覽次數(shù)：123次
聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自 化工機(jī)械設(shè)備網(wǎng)關(guān)鍵詞：?jiǎn)螌幽ぁ⒍鄬幽?、半?dǎo)體、光電子學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)電系統(tǒng)、MEMS、微流體技術(shù)、磁性膜、光學(xué)膜、金屬膜、絕緣膜、半導(dǎo)體膜、共濺射連續(xù)沉積、進(jìn)口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶型號(hào)：MP500S，產(chǎn)地：歐洲，應(yīng)用：沉積AlN、Si3N4，TiN薄膜，抗腐蝕硬質(zhì)膜，半導(dǎo)體膜，氧化物絕緣層等
關(guān)鍵詞：?jiǎn)螌幽?、多層膜、半?dǎo)體、光電子學(xué)、光子學(xué)、微機(jī)電系統(tǒng)、MEMS、微流體技術(shù)、
磁性膜、光學(xué)膜、金屬膜、絕緣膜、半導(dǎo)體膜、共濺射
連續(xù)沉積、進(jìn)口磁控濺射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶
型號(hào)：MP500S， 產(chǎn)地：歐洲 ， 應(yīng)用：沉積AlN、Si3N4，TiN薄膜，抗腐蝕硬質(zhì)膜，半導(dǎo)體膜，氧化物絕緣層等。
反應(yīng)磁控濺射鍍膜儀是微米納米器件制備的設(shè)備，可用于制備普通金屬薄膜，氮化鋁(AlN)壓電薄膜，Si3N4薄膜，TiN薄膜，抗腐蝕硬質(zhì)膜，半導(dǎo)體薄膜，氧化物絕緣層等，適用于半導(dǎo)體，光電子學(xué)，光子學(xué)，微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）和微流體技術(shù)等領(lǐng)域。
MP500S 配置 如下：
腔體尺寸：內(nèi)徑500mm、高度400mm，電解拋光不銹鋼腔體
真空系統(tǒng)：采用1000l/s分子泵（可選擇低溫泵）+30m3/h機(jī)械泵
配備薄膜真空計(jì)、潘寧/皮拉尼真空計(jì)
磁控陰極：3個(gè)3英寸磁控陰極，
與樣品臺(tái)的距離手動(dòng)可調(diào)（8-13cm）
每個(gè)陰極配備一個(gè) 圓柱形擋板，防止 污染
每個(gè)陰極配備一個(gè)電氣閥
每個(gè)陰極都可以是直流或射頻模式（可選）
陰極電源：一個(gè)300W 13.56MHz射頻電源（可以升級(jí)到2kW）
射頻轉(zhuǎn)換開(kāi)關(guān)可用于濺射或襯底清洗
一個(gè)700W 直流電源
允許共濺射或順序?yàn)R射（可達(dá)6種材料）
反應(yīng)氣路：2條氣路（Ar和另外一條），每個(gè)氣路配備MFC
Load Lock（可選）：采用Al合金腔體，手動(dòng)樣品傳動(dòng)臂。
采用5m3/h干泵抽氣
配帶皮拉尼真空計(jì)
控制系統(tǒng)：全自動(dòng)控制，半自動(dòng)和手動(dòng)模式可用
若對(duì)我們的設(shè)備感興趣，歡迎聯(lián)系我們！
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
化工機(jī)械設(shè)備網(wǎng) 設(shè)計(jì)制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請(qǐng)輸入賬號(hào)
請(qǐng)輸入密碼
請(qǐng)輸驗(yàn)證碼
