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丹麥NILT公司是的納米壓印模板掩膜供應(yīng)商，其提供納米壓印機(jī)和納米加工模板在內(nèi)的一系列納米壓印相關(guān)產(chǎn)品，包括各類(lèi)材質(zhì)，各類(lèi)功能的壓印模板，掩膜。

NILT通過(guò)熱模壓、滾印、注射模塑和紫外壓印等不同的工藝，能生產(chǎn)制造出各類(lèi)不同功能的納米壓印模板。其中標(biāo)準(zhǔn)的壓印掩膜（模板）根據(jù)功能的不同，分為抗反射掩膜，增光掩膜，衍射光柵模板，金屬線(xiàn)柵偏光鏡標(biāo)準(zhǔn)模板，微針體標(biāo)準(zhǔn)母膜，大面積柱形標(biāo)準(zhǔn)母膜，微圖形標(biāo)準(zhǔn)模板 (MICRO)，亞微米標(biāo)準(zhǔn)模板。

NIL抗反射掩膜 (ANTI-REFLECTION)，納米壓印模板掩膜

抗反射膜模板的特點(diǎn)是以大面積為主；適用于可見(jiàn)光范圍和近紅外范圍，反射率可減低到 0.2%

規(guī)格	Type B	Type A	Type C	Type NIR
模板型號(hào)	ARSS_B_06	ARSS_A_02	ARSS_C_02	ARSS_NIR_02
材質(zhì)	Nickel	Nickel	Nickel	Nickel
光柵類(lèi)型	Hexagonal Array	Hexagonal Array	Hexagonal Array	Hexagonal Array
Pitch	300 nm	250 nm	250 nm	500 nm
Average height	300 nm	350 nm	350 nm	Larger than 700 nm
模板厚度	300 µm	300 µm	300 µm	300 ?m
模板尺寸	70 mm x 70 mm	120 mm x 120 mm	250 mm x 250 mm	100 mm x 100 mm
有效面積	50 mm x 50 mm	100 mm x 100mm	200 mm x 200 mm	80 mm x 80 mm
Expected %R PMMA	Less than 0.6%	Less than 0.2%	Less than 0.2%	Less than 0.2% Less than 0.3%
Pattern polarity	Protrusions	Protrusion	Protrusions	Holes

NIL Technology衍射光柵模板 (DIFFRACTION GRATINGS)

衍射光柵采用鎳材質(zhì)模板，表面紋路分為線(xiàn)狀或交叉狀兩種，平均深度為250nm，線(xiàn)距為500nm。適合用于：LED & OLED 光的外耦合OUT-COUPLING，將不同光導(dǎo)入波導(dǎo)WAVEGUIDE，光學(xué)分束，鐳射感應(yīng)器，薄膜行業(yè)和太陽(yáng)能光伏等。

特點(diǎn)：

紋路形狀呈正弦曲線(xiàn)SINUSOIDAL ，紋路的參數(shù)也不同

80 x 80mm有效面積（模板面積為100 x 100mm）

規(guī)格：

規(guī)格	Linear Grating	Crossed grating
模板型號(hào)	DG_L500	DG_C500
材質(zhì)	Nickel	Nickel
Profile shape	Sinusoidal	Sinusoidal
Pitch	500 nm	500 nm
Average depth	250 nm	250 nm
模板厚度	300 µm	300 µm
模板尺寸	100 mm x 100 mm	100 mm x 100 mm
有效面積	80 mm x 80 mm	80 mm x 80 mm

NIL金屬線(xiàn)柵偏光鏡模板(WIRE GRID POLARIZER)

一般金屬線(xiàn)柵偏光鏡制造出來(lái)后需要經(jīng)過(guò)一定測(cè)試，而NILT通過(guò)納米壓印生產(chǎn)出金屬線(xiàn)柵偏光鏡的標(biāo)準(zhǔn)模板，可避免頻繁的測(cè)試，免去因測(cè)試所造成的成本。標(biāo)準(zhǔn)模板的線(xiàn)呈槽狀，槽寬、槽距均為50nm，模板的有效面積可達(dá)12 x 12mm, L/S 50nm，模板復(fù)制子模適用于UV或熱壓過(guò)程。

規(guī)格：

規(guī)格	Type A	Type B
模板型號(hào)	WGPSS_A_V1	WGPSS_B_V1
模板尺寸	2 inch round wafer with flat	2 inch round wafer with flat
材質(zhì)	Silicon	Silicon
有效面積	12 mm x 12 mm	6 mm x 6 mm
模板厚度	500 µm +/- 25 µm	500 µm +/- 25 µm
結(jié)構(gòu)類(lèi)型	50 nm wide grooves with 50 nm spacing	50 nm wide grooves with 50 nm spacing
橫向公差	+/- 10 nm	+/- 10 nm
結(jié)構(gòu)深度	100 nm	100 nm
垂直公差	+/- 15 nm	+/- 15 nm
缺陷密度	Less than 0.01% of patterned area	Less than 0.01% of patterned area

NIL微針體標(biāo)準(zhǔn)模板 (MICRO-NEEDLE STANDARD STAMP)

NILT提供的微針體標(biāo)準(zhǔn)模板的特點(diǎn)是特點(diǎn)：1. 微針呈正方形排列相隔500um； 2. 有效面積達(dá)70mm(斜角計(jì))

微針體模板可經(jīng)熱壓或鑄造出所需微針形狀，可利用模板采用鎳片注塑而成。標(biāo)準(zhǔn)模板造出的微針體有足夠硬度可用于皮膚的不同測(cè)試，醫(yī)學(xué)方面可應(yīng)用的涂藥式微針或注射式微針。

規(guī)格：

規(guī)格	Micro-needle - Type A
模板型號(hào)	MNSS_A_V1
材質(zhì)	Silicon
微針布局	Square array
微針基本尺寸	100 µm x 100 µm
微針高度	200 µm (base to tip)
微針*高度	70 µm
微針*曲率半徑	~1 µm
微針間距	500 µm
模板尺寸	100 mm diameter (SEMI standard wafer with a flat)
模板厚度	525 µm (SEMI standard wafer with a flat)
有效面積	70 mm diagonal square area in the center

NIL精工增光掩膜 (LINEAR AND CIRCULAR ENGINEERED DIFFUSERS)

NILT的精工增光掩膜可精準(zhǔn)控制增光度，形狀可選擇直線(xiàn)、橢圓形和圓形，定制性強(qiáng)，面積可達(dá) 120x 120mm。它的功能在于控制照明元素LIGHTING ELEMENTS和光源LIGHT SOURCES的光量。例如鐳射、LED、LCD的背光源，而同時(shí)擁有很高的透光率。

規(guī)格
Circular version	Type B	Type D
模板型號(hào)	EDSS_B_C_V1	EDSS_D_C_V1
結(jié)構(gòu)類(lèi)型	Engineered Diffuser	Engineered Diffuser
輸出類(lèi)型	Circular diffusion	Ciruclar diffusion
Diffusion angles (FWHM)*	25°	25°
材質(zhì)	Nickel	Nickel
模板厚度	300 µm	300 µm
模板尺寸	70 mm x 70 mm	120 mm x 120 mm
有效面積	50 mm x 50 mm	100 mm - 100 mm

NIL大面積柱形標(biāo)準(zhǔn)模板 (LARGE AREA PILLARS)

大面積柱形標(biāo)準(zhǔn)模板采用光子晶體結(jié)構(gòu)，是以方形排列光子晶體并分布在4個(gè)1平方米的格子的硅晶圓上。

可選4種不同規(guī)格的大面積柱形模板，結(jié)構(gòu)尺寸在125 – 275nm之間，

規(guī)格:

規(guī)格
模板型號(hào)	LAPSS_V1
模板尺寸	2 inch round wafer
材質(zhì)	Silicon
厚度	525 µm +/- 25 µm
結(jié)構(gòu)尺寸	125 nm, 175 nm, 225 nm, 275 nm (rounded squares)
Structure pitch	200 nm, 300 nm, 400 nm, 500 nm
Protrusion height	100 nm - 300 nm (you decide!)
Tolerance, lateral and vertical dimensions	+/- 15%
缺陷密度	Less than 0.1% of total patterned area

NIL亞微米標(biāo)準(zhǔn)模板 (SUB-MICRO)

亞微米標(biāo)準(zhǔn)模板的圖形有3種，包括線(xiàn)(500nm)、柱(1um)、孔(2um)，是專(zhuān)門(mén)為測(cè)試亞微米至納米級(jí)壓印而設(shè)計(jì)的，材料可選擇硅或石英，標(biāo)準(zhǔn)尺寸為 20 x 20mm。

規(guī)格：

模板型號(hào)	MSS_V1
模板尺寸	20 mm x 20 mm
材質(zhì)	Silicon
厚度	1 mm
結(jié)構(gòu)尺寸	1 µm - 50 µm
Etch depth	2 µm, 5 µm or 10 µm
Pattern field size	4 mm x 4 mm
交期	3-4 weeks

NIL微圖形標(biāo)準(zhǔn)模板 (MICRO)

微圖形標(biāo)準(zhǔn)模板有4種圖形,包括直線(xiàn)、橫線(xiàn)、柱狀和孔狀，其尺寸為1um, 5um, 10um, 50um呈現(xiàn)在20mm x 20mm硅晶圓片上。

規(guī)格：

模板型號(hào)	SMSS_SIQZ_V1
模板尺寸	20 mm x 20 mm
材質(zhì)	Silicon or Fused Silica
厚度	1 mm
結(jié)構(gòu)尺寸	500 nm - 2 µm
Etch depth	1 µm or 2 µm in Silicon. 500 nm in Fused Silica
Pattern field size	5 mm x 5 mm
交期	3-4 weeks

微透鏡陣列模板

NILT提供帶凹面或凸面微透鏡陣列的納米微加工模板，用于通過(guò)熱壓印或注塑成型生產(chǎn)聚合物微透鏡陣列。材質(zhì)一般采用熔融石英或鎳制成。 NILT可以獨(dú)立的控制鏡頭深度、高度和寬度，因此可以在壓印模板上制作任何拋物面鏡片形狀。

壓印模板的直徑可達(dá)150mm，鏡頭尺寸從300nm-400μm，還可以提供具有凸透鏡和凹透鏡陣列的聚合物材質(zhì)復(fù)制品。

微透鏡陣列壓印模板
壓印模板尺寸	可達(dá)150 mm
壓印模板材質(zhì)	熔融石英或鎳
微透鏡尺寸	300 nm - 400 µm
SAG	可達(dá) 50 µm
Lens arrangements	Hexagonal closed packed
	Square and hexagonal, not closed packed
	Lenticular