全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APS-500W

型號（Model）

CRF-APS-500W

電源（Power supply）

220V/AC,50/60Hz

功率（Power）

1000W(Max)/13.56MHz

有效處理寬幅（Processing width）

120mm-2000mm(Option)

有效處理高度（Processing height）

1mm-3mm（Max）

處理速度（Processing speed）

0-5m/min

工作氣體（Gas）

AR+O2

產(chǎn)品特點：低溫處理過程，處理溫度可< 35℃以下；

內(nèi)置式冷卻系統(tǒng)，提高和保證設備的使用壽命和性能；

靈活On-Line安裝方式，電子和離子的能量可達10eV以上，材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。

應用范圍：應用于FPC&PCB表面處理，復合型材料，玻璃，ITO等行業(yè)領域的表面處理；

大氣等離子噴涂精確地控制涂層厚度和表面特性

    大氣等離子噴涂工藝是所有的熱噴涂工藝中靈活性很強的一個，它可以產(chǎn)生足夠的能量熔化材料。由于大氣等離子在噴涂使用粉末作為涂層原料，在大氣等離子在噴涂工藝中可以使用的涂層材料的數(shù)量幾乎是無限的。在陽極（噴嘴）和陰極（電極）之間點燃高頻電弧，在其間流動的工藝氣體（通常為氬氣、氮氣、氫氣和氦氣的混合物）被離子化為熱等離子氣體的羽流，從而超過太陽表面6,600°C至16,600°C (12,000°F至30,000°F)的溫度。當涂層材料被注入到氣體羽流后，材料被熔化并被射向靶基體。
大氣等離子噴涂原理：
    大氣等離子噴涂簡稱等離子噴涂。等離子噴涂通過等離子噴槍來實現(xiàn)，噴槍的噴嘴（陽極）和電極（陰極）分別接電源的正、負極，噴嘴和電極之間通入工作氣體，借助高頻火花引燃電弧。電弧將氣體加熱并使之電離，產(chǎn)生等離子弧，氣體熱膨脹由噴嘴噴出高速等離子射流。送粉氣將粉末從噴嘴內(nèi)（內(nèi)送粉）或外（外送粉）送入等離子射流中，被加熱到熔融或半熔融狀態(tài)，并被等離子射流加速，以一定速度噴射到經(jīng)預處理的基體表面形成涂層。常用的等離子氣體有氬氣、氫氣、氦氣、氮氣或它們的混合物。
    使用的工藝氣體與電極上施加的電流共同控制工藝產(chǎn)生的能量。由于可以對每種氣體和所用電流進行精確的調(diào)節(jié)，所以涂層結果可以重復和預測。同時，材料被射入羽流的地點和角度以及噴槍到靶的距離也可被控制，從而能高度靈活地產(chǎn)生恰當?shù)牟牧蠂娡繀?shù)，擴大熔化的溫度范圍。等離子噴槍與靶部件的距離、噴槍和部件的相對速度以及部件冷卻（通常借助集中在靶基體的空氣噴射的幫助），一般將部件的噴涂溫度控制在38°C至260°C (100°F至500°F)。
大氣等離子在噴涂工藝的特性 :
    可選涂層材料多，包括金屬、合金、陶瓷、金屬陶瓷、碳化物以及其他。涂層設備可以使用不同材料的層,生產(chǎn)符合各種應用的表面，包括多種不同的耐磨損和抗腐蝕機制、所需的熱特性或電特性、表面修復和尺寸控制。精確地控制涂層厚度和表面特性，例如空隙度和硬度。沒有熱影響區(qū)域或部件扭曲，沉積率高，涂層與基體的粘結力強，復雜幾何形狀的涂層，易于遮蓋不應噴涂的區(qū)域，工藝可實現(xiàn)全自動化。