TMC784系列研究等級光學(xué)平臺性能上是工業(yè)中的。它具有TMC的CleanTop設(shè)計(jì)：小的核心尺寸，高的核心密度設(shè)計(jì)，全鋼結(jié)構(gòu)以及商用高等級結(jié)構(gòu)阻尼。研究等級的CleanTop在要求很嚴(yán)苛的領(lǐng)域如干涉儀、全息術(shù)，和超快激光技術(shù)，以及嚴(yán)重的地板振動(dòng)環(huán)境中都被推薦使用。將STACIS#174; iX 支腿或混合空氣/壓電平臺振動(dòng)消除系統(tǒng)和此平臺結(jié)合使用，可以形成好的整體振動(dòng)控制。

詳細(xì)介紹

TMC784系列研究等級光學(xué)平臺

研究等級的 CleanTop 在光學(xué)平臺性能上是工業(yè)中的。它具有TMC的CleanTop設(shè)計(jì)：小的核心尺寸，高的核心密度設(shè)計(jì)，全鋼結(jié)構(gòu)以及商用高等級結(jié)構(gòu)阻尼。研究等級的CleanTop在要求很嚴(yán)苛的領(lǐng)域如干涉儀、全息術(shù)，和超快激光技術(shù)，以及嚴(yán)重的地板振動(dòng)環(huán)境中都被推薦使用。將STACIS® iX 支腿或混合空氣/壓電平臺振動(dòng)消除系統(tǒng)和此平臺結(jié)合使用，可以形成好的整體振動(dòng)控制。

TMC784系列研究等級光學(xué)平臺特點(diǎn)：

1、結(jié)構(gòu)阻尼---研究等級

2、CleanTop獨(dú)立尼龍杯，每一個(gè)螺紋孔下面都是密封的（25mm）

一般技術(shù)要求：

核心：鋼制蜂窩封閉孔，0.010英寸厚的鋁箔
   核心剪切模量：275000 psi
   核心單元尺寸：< 0.5 in.²
   核心密度：13.3磅/發(fā)生(230公斤/立方米)
   平面度：0.005英寸。(0.13毫米)
   桌面表層：430系列鐵磁不銹鋼，3/16英寸厚(5毫米)
   側(cè)壁：阻尼成型槽鋼，乙烯基覆蓋

螺紋孔：25毫米長CleanTop尼龍杯

角順應(yīng)性數(shù)據(jù)測量了平臺在響應(yīng)校準(zhǔn)錘的沖擊時(shí)所產(chǎn)生的位移。順應(yīng)性是在48in x 96in x 12in的平臺上測量的。

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